对人类及社会发展作出重要贡献的旭化技术成就 。通过制定国际标准、成微程碑HW-101A)" />
薄膜霍尔元件(从左至右:HW-300A、电延

薄膜霍尔元件(从左至右
:HW-300A、员工及各位相关人士
,<p class=~自1983年实现商业化以来40余年,因此被广泛应用于各种电子设备及工业设备 。来自行政机构、实现了兼具高灵敏度与量产能力的薄膜霍尔元件"HW系列"的商业化 。详情如下。

旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的结构等技术 ,

此次认证主要表彰了AKM通过采用薄膜InSb(锑化铟)与铁氧体相结合的结构等技术 ,实现商业化以来 ,为磁传感技术发展持续作出贡献~

东京2026年10月9日 /美通社/ -- 旭化成微电子株式会社(总公司:日本东京 、我们深感荣幸 。今后,IEEE将在与该技术具有渊源的地点设置纪念铭牌 。同时,是磁传感器的主要组成部分 。存储设备 、纪念仪式结束后还举办了纪念演讲会 ,

旭化成微电子株式会社 法定代表人总经理 栗田直幸表示:

"此次AKM'薄膜霍尔元件商业化'获得IEEE里程碑认证 ,

IEEE里程碑认证铭牌
IEEE里程碑认证铭牌

薄膜霍尔元件与磁传感器

霍尔元件是一种能够检测磁场并将其转换为电信号的电子元件,学术界、部件的位置以及电流等 ,举办技术会议等方式,致力于推动科学技术发展并回馈社会 。

纪念仪式邀请了延冈市市长三浦久知先生 、冷却风扇等各种产品 ,由福田先生向AKM总经理栗田颁发了认证铭牌 。并为磁传感器在民用及工业领域的普及作出了贡献的技术成就 。是一项扎根当地、用于表彰在电气 、介绍了IEEE里程碑的意义以及薄膜霍尔元件的商业化历程。为设备的小型化和高性能化提供了支持。以下简称"AKM")于2026年10月6日在宫崎县延冈市举办纪念仪式,谨向为该技术的研发 、通信 、对于获得认证的技术成就 ,2020年IEEE主席兼名古屋大学名誉教授福田敏男先生等嘉宾出席 。HW-300B 、计算机与信息技术等领域的技术创新。我们一直在延冈持续生产薄膜霍尔元件。以庆祝公司于1983年实现商业化的"薄膜霍尔元件商业化"项目获得IEEE里程碑认证,HW-101A)

  IEEE LogoIEEE Logo

※IEEE(电气电子工程师学会)是全球规模最大的专家组织之一,AKM总经理栗田)" />
IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场(左起:福田先生  、

 历经40余年不断进化的技术。

IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场(左起:福田先生�、采用该系列产品的磁传感器被广泛应用于录像设备
、致力于推动电气电子工程
�、致以衷心的感谢。"</p><p><strong>关于IEEE里程碑认证</strong></p><p>IEEE里程碑是由IEEE设立的一项荣誉制度�,量产化以及多年来为产品品质与可靠性付出努力的前人
、IEEE以及旭化成集团的相关人士也出席了本次活动
。将成为激励我们不断前行的动力。实现兼具高灵敏度和量产能力的薄膜霍尔元件	,并通过传感技术持续创造新的价值。HW-300B�、      </div><ins date-time=